研磨機wafer預載位的高精度檢測方案

研磨機wafer預載位的有無檢測確認。

■ 不同工序時wafer襯底的粗糙度較大，尤其是拋光后的wafer作為鏡面體產生的正反光非常容易影響傳感器的檢測。

■ 需要300~500mm的遠距離穩定檢測，方便機械手吸取wafer。

■ 需要對透明wafer襯底進行檢測。

核心產品：光電傳感器 E3AS-HL500L

■ 透鏡自動校準配備高精度CMOS，穩定檢測各種材質wafer。

■ 擁有優異的角度特性，在遠距離檢測時能針對線切割后的wafer的粗糙面進行穩定檢測。

■ 需要檢測透明wafer時，可通過示教輕松設定高靈敏度背景。