國家863計劃集成電路制造裝備重大專項“100nm（納米）高密度等離子體刻蝕機和大角度離子注入機”，日前通過了科技部與北京市組織的項目驗收。其中，刻蝕機申報發明專利135項，擁有軟件版權6項；注入機申請了核心發明專利26項。
與此同時，北京北方微電子公司、北京中科信公司與國內著名集成電路企業分別簽訂了刻蝕機和離子注入機的批量采購合同，這是國內集成電路設備企業第一次成為主流生產廠商的設備供應商。據介紹，北京電子控股公司聯合清華大學、北京大學、中科院、七星集團等單位共同組建的北方微電子公司主要實施等離子刻蝕機的自主研發；中國電子科技集團聯合48所、45所組建的北京中科信電子裝備公司則主要承擔離子注入機的攻關任務。
專家指出，100nm離子刻蝕機和離子注入機的研制成功，意味著我國科技人員僅用3年多的時間就走完了發達國家走了10年的路，使我國高端集成電路核心設備的技術水平直接跨越了五個技術代，并首次實現了高端集成電路裝備的“中國創造”。
集成電路裝備產業已成為高技術裝備工業的典型代表。據預測，到2010年，我國集成電路產業的投資總額累計將達到3500億元，其中大部分為集成電路制造裝備投資。面對急速增長的市場，我國的集成電路裝備制造業在生產規模、研發水平、投資強度及人才聚集等方面都存在較大的差距，尚未形成可以支撐自身可持續發展的產業規模，我國已建和在建的8英寸以上集成電路生產線的核心設備幾乎完全依賴進口，缺乏核心競爭力和自主創新能力導致我國的集成電路產業在核心技術方面受制于人。
“十五”期間，科技部將“集成電路制造裝備”課題列為863計劃重大專項，采用“業主負責、集中投入、重點攻關、培育企業”的方式，開展了“100nm高密度等離子體刻蝕機”、“100nm大角度離子注入機”等核心裝備的技術攻關。其中由北京市組織實施的“8英寸100nm多晶硅刻蝕機和大傾角離子注入機”成功完成了產品研制工作，并實施了近一年的檢驗、考核，整個考核過程完全按照國際化驗收標準。考核結果表明，國產刻蝕機與注入機的設備設計參數、硬件性能參數、工藝基本參數等指標均達到國際同類生產設備的技術標準。